Q. 세메스 건식세정(PURITAS) 설비 질문

답변 3

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  전문상담HL 디앤아이한라

  코이사 ∙ 채택률 63%

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  건식세정 Puritas는 표면 불순물 제거용 건식 세정 설비가 맞습니다. 플라즈마를 이용하기 때문에 에칭과 유사한 화학 반응이 일부 일어나지만, 주목적은 세정(불순물제거)이지 패턴 형성이나 식각이 아니라서 엄밀히 말해 에칭 설비는 아닙니다.

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  PRO액티브현대트랜시스

  코상무 ∙ 채택률 100%

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  먼저 채택한번 꼭 부탁드립니다!! , 현업에서도 많이 헷갈리는 지점입니다. 결론부터 말하면 PURITAS는 ‘에칭 설비’가 아니라 ‘세정 목적의 플라즈마 공정 장비’로 보는 게 맞습니다. 다만 기술적으로는 에칭 메커니즘을 일부 사용하기 때문에 그렇게 느껴지는 것이 정상입니다. 정리하면 차이는 ‘목적과 공정 윈도우’입니다. 에칭 장비는 패턴 형상 형성·선택비·CD 제어가 목적이라 의도적인 재료 제거량을 정밀하게 제어합니다. 반면 PURITAS 같은 건식 세정은 잔여물(폴리머, 유기 오염, 파티클)을 제거하는 것이 목표이고, 기판 자체의 손상·두께 변화는 최소화합니다. 플라즈마를 쓰더라도 저에너지·저이온 플럭스·저바이어스 조건으로 운용되어, 실질적인 ‘형상 가공’이 아닌 ‘표면 정화’ 영역에 가깝습니다.

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  프로답변러YTN

  코부사장 ∙ 채택률 86%

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  멘티님 건식 세정 설비인 PURITAS는 플라즈마를 이용해 표면의 산화막을 깎아낸다는 기술적 원리만 보면 식각 즉 에칭 설비와 매커니즘이 100퍼센트 동일한 것이 맞습니다. 하지만 에칭 공정은 회로 패턴을 만드는 것이 목적이고 건식 세정은 후속 공정의 품질을 위해 표면의 불순물을 제거하는 것이 목적이므로 에칭 설비가 아닌 세정 설비로 분류하는 것이 확실합니다. 원리는 같으나 목적이 다르기에 현업에서도 이를 에칭 설비라 부르지 않고 전처리 세정 설비로 명확히 구분합니다. 채택부탁드리며 파이팅입니다!

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  반도체

  설계팀

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